- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
氣體質(zhì)量流量計全稱為質(zhì)量流量控制器，其英文名字叫“MASS FLOW CONTROLLER”(簡稱MFC)，主要由：流量傳感器、流量調(diào)節(jié)閥、放大控制電路和分流器控制通道等部件組成。它的工作電源及流量顯示和設(shè)定等操作由與其配套的流量顯示電源提供。質(zhì)量流量計主要用于對氣體的質(zhì)量流量進行精密測量和控制。廣泛用于石油化工、冶金、制藥等領(lǐng)域；比如：擴散，氧化，分子束外延，CVD，等離子刻蝕，濺射，離子注入，以及真空鍍膜設(shè)備，光纖熔煉，微反應(yīng)裝置，混氣配氣系統(tǒng)，毛細管測量氣象色譜儀，光導(dǎo)纖維制造設(shè)備中。其主要特點：
1、可以任意角度安裝
2、良好的線性——多段線性補償
3、快速的響應(yīng)速度，穩(wěn)定度高，重復(fù)性好。
4、電磁閥使用壽命≥100萬次
5、對零點漂移有效的控制
6、傳感器、分流器、精密元器件日本進口
|
產(chǎn)品名稱 |
氣體質(zhì)量流量計 |
|
|
流量范圍 |
(10,20,30,50,100,200,300,500)mL/min |
|
|
調(diào)節(jié)閥類型 |
電磁調(diào)節(jié)閥 |
|
|
調(diào)節(jié)閥靜止狀態(tài) |
常閉 |
|
|
安裝角度 |
任意 |
|
|
流量控制范圍 |
2%～100% |
|
|
流量測量范圍 |
0～100% |
|
|
響應(yīng)時間 |
2s（T98，設(shè)定值的±2% F.S.） |
|
|
工作環(huán)境溫度 |
5℃～50℃ |
|
|
精度保證溫度 |
15℃～35℃ |
|
|
精度 |
±1.0%F.S. |
|
|
線性精度 |
±0.5%F.S. |
|
|
重復(fù)性 |
±0.2%F.S. |
|
|
工作壓差 |
～5L/min (50～300)kPa(D) |
|
|
耐壓 |
3MPa |
|
|
泄漏率 |
1×10-8 Pa?m3/s （He） |
|
|
接觸氣體材料 |
316L,PTFE,Viton氟橡膠 |
|
|
管路接頭 |
Swagelok:1/4″Φ6 Φ10 VCR:1/4″3/8″ |
|
|
供電電源 |
±15VDC(±5%) +15V＜100mA,-15V＜150mA |
+24VDC(寬電壓+11～+25V), |
|
設(shè)定信號 |
(0～5)VDC 輸入阻抗＞1MΩ |
4～20mA；（可定制：1～5V或0～5V） |
|
流量輸出信號 |
(0～5)VDC 負載能力≤3mA |
|
|
電氣接頭 |
D-SUB15,D-SUB9 |
|
|
重量(kg) |
0.9 |
|
