等離子增強原子層沉積（PEALD）系統是一種先進的薄膜沉積技術，結合了等離子體和原子層沉積（ALD）的優點，以實現更高的薄膜質量、更低的沉積溫度和更廣泛的材料兼容性。PEALD系統在微電子、光電器件、表面工程等領域中有著廣泛的應用。

產品特點： 

1.等離子體增強反應：

PEALD系統通過引入等離子體來激發反應氣體，使得在較低溫度下即可實現薄膜的沉積。這使得PEALD系統特別適合用于沉積對溫度敏感的材料，如有機物或柔性基板上的薄膜。 

2.更高的薄膜密度與純度：

由于等離子體能夠提供高能量的反應物質，PEALD系統可以在較低溫度下沉積出高密度、高純度的薄膜，減少了薄膜中的缺陷和雜質。 

3.優異的膜厚均勻性：

PEALD保留了傳統ALD的優勢，能夠在復雜的三維結構和高縱橫比的基板上實現均勻的薄膜覆蓋，這在器件微縮和納米結構制造中尤為重要。 

4.靈活的工藝控制：

PEALD系統允許獨立控制等離子體生成和ALD前驅體脈沖的時間，提供了極大的工藝靈活性。通過調節等離子體功率、時間和氣體流量，可以優化不同材料的沉積條件。 

5.廣泛的材料兼容性：

PEALD系統適用于沉積各種材料，包括氧化物、氮化物、硫化物、金屬等，特別適合沉積氮化硅（SiNx）、氮化鋁（AlN）、氮化鈦（TiN）等材料。 

6.低溫沉積：

與傳統的熱ALD系統相比，PEALD能夠在較低溫度下沉積高質量的薄膜，這對于在溫度敏感基板（如聚合物基板）上的應用至關重要。

技術參數：

主要部件：

應用領域： 

1. 半導體制造

高k電介質和金屬柵極：PEALD用于在晶體管中沉積高k材料（如HfO?、ZrO?），以及金屬柵極材料（如TiN），以提高器件性能，減少漏電流。

銅互連阻擋層和襯墊層：PEALD可以沉積低溫、高質量的阻擋層（如TiN、TaN），用于防止銅在互連結構中擴散。

鈍化層：在集成電路和其他微電子器件中，沉積鈍化層以保護器件表面免受外界環境的影響，延長器件壽命。

2. 光電器件

太陽能電池：PEALD在薄膜太陽能電池（如CIGS、CdTe、硅基太陽能電池）中沉積鈍化層或緩沖層（如Al?O?、ZnO），以提高光電轉換效率和穩定性。

LED和OLED：用于發光二極管（LED）和有機發光二極管（OLED）中沉積透明導電氧化物（如ZnO、SnO?）或緩沖層，以提升發光效率和壽命。

3. 納米技術

納米結構涂層：PEALD可以在復雜的納米結構（如納米線、納米管、量子點）上沉積均勻的薄膜，用于調控其電學、光學和機械性能。

納米器件制造：在制造納米級別的電子和光子器件中，PEALD提供了**的材料厚度控制，適合制作超薄的功能性層。

4. 表面工程和防護涂層

抗腐蝕涂層：在金屬表面沉積抗腐蝕涂層（如Al?O?、TiO?），用于提高材料在腐蝕性環境中的耐久性，廣泛應用于航空航天、化工設備等領域。

生物醫學應用：在植入物和其他生物醫學器械上沉積生物相容性涂層，改善植入物與人體組織的相容性，減少排斥反應。

5. 柔性電子

柔性顯示屏：PEALD在低溫下沉積高性能的薄膜，用于柔性顯示屏（如OLED、電子紙）中的電極或保護層。

可穿戴設備：用于沉積薄膜保護層或功能層，以增強柔性和可穿戴設備的耐用性和性能。

6. 能源存儲與轉換

鋰離子電池：PEALD在電極材料（如LiCoO?、LiNiMnCoO?）和電解質界面沉積保護層，以延長電池壽命并提升充放電性能。

燃料電池和超級電容器：用于沉積催化劑層和保護層，提升燃料電池的效率和超級電容器的能量密度。

7. 傳感器技術

氣體傳感器：在傳感器的活性層或敏感層上沉積功能性薄膜（如ZnO、TiO?），以提高傳感器對特定氣體的檢測靈敏度和選擇性。

生物傳感器：用于沉積功能性薄膜，增強生物傳感器對目標分子的識別和檢測能力。

8. 光學元件

抗反射涂層：在光學元件上沉積抗反射涂層（如SiO?、Al?O?），以減少光損失并提高透過率，廣泛應用于光學儀器、攝像設備等。

濾光片和鏡頭：PEALD可以沉積**控制厚度的薄膜，用于制作濾光片、反射鏡等光學元件。

9. 顯示技術

薄膜晶體管（TFT）：用于在液晶顯示器（LCD）、OLED顯示器中制造薄膜晶體管，提升顯示器的分辨率和性能。

觸摸屏技術：在觸摸屏中，沉積透明導電薄膜（如ITO、ZnO），提高觸摸屏的導電性和耐用性。

應用案例（在PET膜上沉積SiO2）：